[뉴스토마토 한형주기자]
테스(095610)는 플라즈마 처리장치 관련 특허권을 취득했다고 12일 공시했다.
이 특허로 플라즈마 기판의 배면에 직접 가스를 공급해 플라즈마를 발생시키고 플라즈마를 기판 배면과 하부 전극 사이에 가둬 둠으로써 공정 시간을 단축시키고 공정 효율도 높일 수 있다.
테스는 반도체 장비 제조 시 특허 기술 적용을 통해 경쟁력을 강화하고 기술 경쟁력과 원가 경쟁력을 향상시킬 것이라고 설명했다. 또 반도체·태양전지 장비 개발에도 활용하겠다고 덧붙였다.
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