테스, 반도체층 평가방법 관련 특허권 취득 공유하기 X 페이스북 트위터 URL복사 복사 2011-12-15 13:51:00 ㅣ 2011-12-15 13:52:31 [뉴스토마토 황민규기자] 테스(095610)는 반도체 소자의 n형 반도체층 평가방법에 대한 특허권을 취득했다고 15일 공시했다. 회사 측은 이번 특허가 "고가의 분석 장비를 사용하지 않고 손쉽게 n형 반도체층의 두께를 측정할 수 있어 시간이 절약될 뿐만 아니라 비용도 줄일 수 있을 것"이라고 설명했다. ⓒ 맛있는 뉴스토마토, 무단 전재 - 재배포 금지 관련기사 보령제약, 주당 0.05주 무상증자..32.5만주 발행 인터로조, 주당 130원 현금배당 결정 희림, 한국전기안전공사 신사옥건립 설계용역 수주 국순당, 자사주 1950주 처분 결정 황민규 뉴스북 이 기자의 최신글 0/300 댓글 0 추천순 추천순 최신순 반대순 답글순 필터있음 필터있음필터없음 답댓글 보기3 0/0 댓글 더보기 뉴스리듬 이 시간 주요 뉴스 인기 뉴스 함께 볼만한 뉴스